半导体市场正迎来一个创新的新时代，新的应用推动了对先进半导体器件的需求，这些器件对可靠性、功率处理能力和功耗提出了更严格的要求，同时将更多功能封装到更小的封装中，并减少了技术节点。

在这些要求苛刻的应用程序中，功能越来越强大的智能手机和平板电脑同时也以提高电池寿命为目标。最近，汽车传感器系统、物联网(IoT)、下一代无线通信(5G)和智能电网已经成为未来几年和几十年具有巨大扩展潜力的应用。例如，未来的自动驾驶汽车需要大量的计算能力来实时处理来自摄像头和传感器的输入;必要的高性能处理器必须既可靠又节能。

对高质量气体和更好分析的需求
为了应对这些新应用的挑战，半导体行业的国际器件和系统路线图(IRDS)将制造质量作为一个关键方面;因此，半导体器件制造商正在对制造过程的各个方面实施更严格的控制，从洁净室环境和晶圆加工工具到用于生产的原材料，其中许多是气体。因此，改善气体质量控制是半导体晶圆厂提高产量和降低故障率的最重要措施之一。

随着监测和确保更严格、更一致的气体质量的需要，对更敏感、更准确的分析技术的需求也随之而来。与此同时，响应速度也变得越来越重要，因为晶圆厂操作员严重依赖实时过程控制

在许多最先进的半晶圆厂中，腔衰落光谱(CRDS)分析仪是确保制造过程中使用的主要散装气体质量的金标准，这些气体通常是N2、CDA、O2、H2、Ar开云手机版app下载安装最新版和He。