光环RP
是一回事是监测和有很高的信心在你的高纯度散装和特种气体post-purifier阶段但是很多可以改变相同的气体然后穿过各种工厂配电系统和到达设备或过程。除非你是监测接近衬底或室排气过程中,存在风险,处理过程中水分存在分压高,导致缺陷导致产量损失和可靠性问题。例如,在半导体制造、水分或氢氟化出现在低温外延(LTE)会影响质量和epi的应变层。在金属氢化处理气体,多余的水分会导致显著减少发光和产量损失。
能操作在一个压力范围从50托到15 psig,我们老虎光学™晕™RP跟踪等级分析仪为用户提供了无与伦比的精度、可靠性、响应速度和易于操作,用户的分析程开云网页登录序所期望的。开云手机版app下载安装最新版光环RP是用于两个不同的分析物,H2O和高频,确保你的产品不受所有的有害分子。
监测污染物接近衬底或室排气过程中,显著降低过程问题导致产品产生的风险损失。
检测和矩阵 | 范围 | 低密度脂蛋白(3σ) | 精度(1σ)@ 0 |
---|---|---|---|
跟踪H2O分析仪(标准模型) | |||
H2O在N2 | 0 - 20 ppm | 十亿分之1.5 | 十亿分之0.5 |
H2O在基于“增大化现实”技术 | 0 - 20 ppm | 十亿分之1.5 | 十亿分之0.5 |
H2在H O2‡ | 0 - 20 ppm | 十亿分之1.5 | 十亿分之0.5 |
H2O在他 | 0 - 12 ppm | 十亿分之1.0 | 十亿分之0.3 |
H2在盐酸阿对此,‡ | 0 - 25 ppm | 3磅 | 十亿分之1.0 |
H2在公司啊‡ | 0 - 20 ppm | 两磅 | 十亿分之0.7 |
H2O在PH值3‡ | 0 - 10 ppm | 9磅 | 3磅 |
H2O在GeH4‡ | 0 - 18 ppm | 20磅 | 7磅 |
跟踪H2O分析仪(胂模型) | |||
H2O在灰3__ | 0‡- 10 ppm | 5磅 | 两磅 |
H2O在N2 | 0 - 6 ppm | 十亿分之1.0 | 十亿分之0.3 |
H2O在他 | 0 - 3 ppm | 十亿分之1.0 | 十亿分之0.3 |
跟踪高频分析仪 | |||
在N高频2 | 0 - 10 ppm | 十亿分之0.75 | 十亿分之0.25 |
高频的基于“增大化现实”技术 | 0 - 10 ppm | 十亿分之0.75 | 十亿分之0.25 |
高频的男朋友3‡ | 0 - 13 ppm | 十亿分之0.9 | 十亿分之0.3 |
__可能需要腐蚀性气体的版本,请与我们联系以获取更多信息吗
‡泄漏率低真空泵(安全认证服务相关的气体)
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