光环QRP
现代半导体沉积进程在低温外延ALD和MOCVD-operate经常室压力远低于大气和方法个位数的托。同时,过程温度不断下降。在这些条件下,残余水分室构成重大威胁的过程质量和产量。
我们的老虎光学™光环™QRP在低压室湿度监测这些低压条件下优化操作和提供准确和可靠的实时测量来验证水分残留,例如,负载锁,传输和处理室之前H2O污染物妥协后续处理步骤。基于我们证明了腔衰荡光谱法(crd)技术,光环QRP设置新标准在易用性和测量精度对于这个应用程序和运营室压力低至1托。
H2O |
0 - 12 mTorrpp |
1μTorrpp |
0.5μTorrpp |
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